Contro ogni pronostico la Cina potrebbe presto ottenere risultati rilevanti nello sviluppo di semiconduttori avanzati. Il Naura Technology Group di Pechino ha infatti avviato la ricerca sui sistemi di litografia con la chiara intenzione di fornire al Paese le capacità di creare circuiti integrati con caratteristiche su scala nanometrica. Detto altrimenti, il Dragone intende produrre in maniera autonoma semiconduttori sempre più piccoli e, al tempo stesso, potenti.
Ma andiamo con ordine. Diversi attori locali sono all’opera per trovare soluzione “autarchiche” che possano consentire alla Cina di sfornare chip all’avanguardia senza più dover fare affidamento alle apparecchiature del colosso olandese Asml (che, in sostanza, produce impianti che disegnano i chip).
La notizia è altamente rilevante perché, in caso di fumata bianca, i molteplici tentativi fin qui messi in atto dagli Stati Uniti per contenere le capacità di produzione di semiconduttori made in China sarebbero destinati ad avere lo stesso effetto di un buco nell’acqua. Ricordiamo, infatti, che Washington ha recentemente chiesto all’Olanda di bloccare l’esportazione oltre la Muraglia di sofisticati sistemi di litografia che utilizzano i laser per creare i circuiti dei chip.
Lo sprint della Cina
Secondo quanto riportato da Bloomberg c’è una richiesta di brevetto da parte di Huawei Technologies da monitorare con estrema attenzione. L’azienda ha rivelato una tecnica nota come self-aligned quadruple patterning, o SAQP, in grado di incidere più volte le linee sui wafer di silicio per aumentare la densità dei transistor e le prestazioni dei chip. Il brevetto, che combina incisione avanzata e litografia, “aumenterà la libertà di progettazione dei modelli di circuiti”, secondo un deposito presentato alla China National Intellectual Property Administration.
Ma cosa significa tutto questo? Utilizzando il SAQP con le macchine per la litografia ultravioletta profonda (DUV) del gigante olandese ASML e di fornitori giapponesi come Nikon, la Cina potrebbe realizzare sofisticati chip a 5 nanometri senza dover ricorrere a strumenti più avanzati a ultravioletti estremi (EUV), disponibili solo presso la stessa ASML. Alle aziende cinesi è stato negato l’accesso alla tecnologia EUV, ma che queste, negli ultimi anni, hanno accumulato macchine DUV per timore di un inasprimento dei controlli sulle esportazioni da parte di Washington e dei suoi alleati (come in effetti sarebbe accaduto).
“Nessuna forza può fermare il ritmo dello sviluppo e del progresso scientifico e tecnologico della Cina”, ha dichiarato Xi Jinping al primo ministro olandese Mark Rutte in visita a Pechino, mentre il ministro del commercio cinese, Wang Wentao, ha detto al suo omologo olandese Geoffrey van Leeuwen che i Paesi Bassi dovrebbero adempiere agli «obblighi contrattuali» e garantire un commercio «normale» di macchine litografiche.
Progressi e sviluppi
Lo sforzo decennale della Cina, insomma, è sulla buona strada per maturare. Certo, lo Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), l’unico produttore di sistemi di litografia del Paese, non è arrivato neanche lontanamente allo sviluppo di macchine che corrispondano a quelle targate ASML.
Ci sono tuttavia alcuni produttori cinesi di strumenti per chip che sono emersi come attori rilevanti. Gli stessi che potrebbero aiutare il Paese a ridurre la dipendenza dagli strumenti importati dall’estero. Il citato leader cinese delle apparecchiature per semiconduttori Naura Technology Group, ad esempio, ha condotto ricerche preliminari sui sistemi di litografia.
Bisogna comunque considerare che, anche raggiungendo in maniera stabile la produzione di chip a 7 o addirittura a 5 nanometri, la Cina resterebbe ancora indietro rispetto ai suoi rivali. Basti pensare che Taiwan Semiconductor Manufacturing ha prodotto chip a 3 nanometri per Apple e si prevede che passerà presto al silicio a 2 nanometri grazie alle ultime macchine EUV di ASML. Intanto, però, Pechino continua ad accelerare.
